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技術文章/ article
ALS旋轉環盤電極儀：電化學研究的“洞察之眼”在電化學研究的廣闊天地中，揭示反應機理是核心任務之一。許多重要的電化學反應，如氧還原反應、析氧反應、以及復雜的催化過程，都涉及不穩定的中間產物。這些中間體壽命極短，濃度很低，但卻承載著反應路徑的關鍵信息。傳統的靜態電極技術難以捕捉這些“驚鴻一瞥”的物種。而旋轉環盤電極儀，特別是由日本ALS株式會社這類專業電化學儀器制造商生產的高精度設備，則為我們提供了強大的工具，能夠在盤電極上生成中間產物的同時，在環電極上對其進行動態檢測，從而實...
共立KEW-ITD是一款專為測量殺菌紫外線（UVC，波長254nm）照度而設計的高精度手持式儀器。它主要用于驗證和監測使用UVC燈進行表面、空氣和水體消毒的效果，確保消毒設備工作在有效范圍內。核心特點精準的UVC測量：傳感器經過特殊設計，對254nm波長的紫外線具有極的高的靈敏度，并能有效過濾掉可見光和其他非目標波長的紫外線（如UVA、UVB），確保讀數的準確性。這對于有效評估殺菌效果至關重要。符合國際安全標準：其測量方法和性能符合JISC1609-1:2020（日本工業標準...
一、核心概述：它是什么？KETTKB-30是一款由日本KETT電氣實驗室株式會社生產的在線式近紅外水分儀。它的主要特點是：在線檢測：安裝在生產線（如傳送帶、管道等）上，對移動中的物料進行連續、實時的水分測量。非接觸式：傳感器不接觸物料，避免了磨損和對物料的污染，特別適合清潔要求高的行業。快速響應：近紅外光測量速度極快，能瞬間讀取水分數據，幾乎沒有延遲。高精度：采用特定的近紅外波長，對水分子有很好的吸收特性，從而實現高精度測量。二、工作原理KB-30基于近紅外吸收法：發射：儀器...
一、在石油化工行業的作用石化行業通常擁有大規模的蒸汽管網和高溫高壓設備。保障關鍵工藝裝置穩定運行加熱不均：影響反應效率和產品收率。水錘現象：高壓蒸汽遇到管道中的冷凝水會產生巨大沖擊力，可能損壞管道和設備，甚至引發安全事故。作用：在裂解爐、精餾塔、反應器的蒸汽伴熱和加熱系統中，疏水閥一旦失效（泄漏或堵塞），會導致：TLV工具的應用：定期使用超聲波檢漏儀巡檢，可以提前發現故障疏水閥，預防性更換，避免非計劃停機。節能降耗，直接降低生產成本作用：石化廠是能耗大戶。一個高壓蒸汽疏水閥泄...
一、核心技術與特點理光工業噴墨頭采用薄膜壓電式技術，其核心優勢在于：高精度與高分辨率采用精密的MEMS制造工藝，噴嘴孔徑小，排列密集。可以實現高達1200npi甚至更高的原生分辨率，打印效果細膩，線條和文字清晰銳利。高速度與高頻率噴墨頻率非常高，主流型號可達30-50kHz，這意味著每個噴嘴每秒可以噴射數萬滴墨滴。通過增加噴嘴數量（如MH5420/5421擁有2048個噴嘴），實現了在單次掃描中覆蓋更大面積，從而達成極的高的生產速度。可變墨滴技術這是理光噴頭的王的牌技術之一。...
核心技術與工作原理理光塑料分類傳感器通常采用高精度近紅外（NIR）光譜分析技術。其工作原理是：照射：傳感器向被測塑料發射近紅外光。吸收：不同種類的塑料分子會對特定波長的近紅外光產生吸收。分析：傳感器接收反射回來的光線，并分析其光譜“指紋”。識別：將獲得的光譜與內置的龐大數據庫進行比對，瞬間確定塑料的種類（如PET、HDPE、PVC、PP、PS等），甚至能識別顏色、添加劑和雜質。主要適用場景理光的塑料分類傳感器主要應用于以下對分揀純度要求極的高的工業場景：1.塑料回收處理中心（...
半導體制造的潔凈基石：精密清洗技術與SONOSYS的解決方案在納米尺度上構筑龐大計算世界的半導體工業，其基石在于對“潔凈”的極的致追求。制造過程中的任何微小污染物——即便是納米級的顆粒、微不足道的有機物殘留或是痕量的金屬離子——都如同落入精密鐘表里的沙粒，足以導致整個芯片性能失效、良率暴跌。因此，貫穿于硅片、芯片乃至光掩膜版制造的每一環節，清洗工藝都扮演著不的可的或的缺的“清道夫”角色，其技術水平直接決定了集成電路的性能與可靠性。一、為何清洗？——微觀世界中的無形之戰半導體清...
為真理探索掃清障礙：SONOSYS實驗室清洗方案，確保無污染起點在科學研究的征途中，實驗室是探索真理的核心陣地，而實驗器具的清潔度則是確保實驗結果準確性和可靠性的關鍵前提。SONOSYS實驗室清洗方案以其先進的技術、精準的清洗效果和高度的可靠性，為科研人員提供了一個無污染的起點，助力科學研究的每一步都建立在堅實的基石之上。一、實驗室清洗的重要性實驗室是科學研究的基石，而實驗器具的清潔度直接影響實驗結果的準確性和可靠性。無論是化學分析、生物實驗還是物理測試，任何微小的污染都可能...
量身定制，凈益求精：TEKHNETK-100滿足您獨特的實驗室清洗需求在實驗室環境中，清洗工作往往面臨著多樣化的挑戰。從精密儀器的維護，到實驗樣品的預處理，再到各類實驗器具的清潔，每一個環節都要求極高的清潔標準和精準的操作。TEKHNETK-100清洗設備以其高度的靈活性和卓的越的性能，為實驗室提供了量身定制的清洗解決方案，助力科研人員專注于核心實驗工作，無需為清洗環節耗費過多精力。一、實驗室清洗的特殊需求實驗室清洗工作具有以下特點和需求：（一）多樣化的清洗對象實驗室中需要清...
芯凈界，新標準：TEKHNETK-100重新定義精密清洗價值在精密制造領域，清洗工藝一直是確保產品質量和性能的關鍵環節。隨著科技的飛速發展，傳統清洗技術已難以滿足高的端制造對超潔凈表面的要求。TEKHNE公司推出的TK-100精密清洗設備，憑借其創新的技術和卓的越的性能，重新定義了精密清洗的價值，為精密制造行業樹立了新的標準。一、精密清洗的行業痛點在現代精密制造中，無論是半導體芯片、航空航天零部件，還是高的端光學元件，表面清潔度都直接影響產品的性能、可靠性和壽命。然而，傳統清...
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